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半導(dǎo)體鍍層厚度檢測分析儀

簡要描述:半導(dǎo)體鍍層厚度檢測分析儀
是專為半導(dǎo)體行業(yè)打造的精密檢測設(shè)備。它運(yùn)用先進(jìn)的檢測技術(shù),如X射線熒光光譜或橢偏測量等,能以高的精度,快速、無損地測量半導(dǎo)體芯片及器件上各類鍍層厚度。儀器具備高分辨率和良好的重復(fù)性,可精準(zhǔn)捕捉微小厚度變化。廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、研發(fā)等環(huán)節(jié),助力把控產(chǎn)品質(zhì)量,提升生產(chǎn)良率與性能穩(wěn)定性。

  • 產(chǎn)品型號:
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2025-07-10
  • 訪  問  量:27

詳細(xì)介紹

半導(dǎo)體鍍層厚度檢測分析儀

深圳市天創(chuàng)美科技有限公司銷售產(chǎn)品包括X射線熒光光譜儀(含能量色散和波長色散型)(XRF)、電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀(ICP)、原子熒光光譜儀(AFS)、原子吸收分光光度計(AAS)、光電直讀光譜儀(OES)、氣相色譜儀(GC)、液相色譜儀(LC)等。產(chǎn)品主要應(yīng)用領(lǐng)域有電子電器、五金塑膠、珠寶首飾(貴金屬及鍍層檢測等)、玩具安全(EN71-3等),有害物質(zhì)(ROHS和鹵素)、建材(水泥、玻璃、陶瓷等)、合金(銅合金、鋁合金、鎂合金等)、冶金(鋼鐵、稀土、鉬精礦、其它黑色及有色金屬等)、地質(zhì)采礦(各種礦石品位檢測設(shè)備)、塑料(無鹵測試等)、石油化工、嶺土、煤炭、食品、空氣、水質(zhì)、土壤、、商品檢驗(yàn)、質(zhì)量檢驗(yàn)、人體微量元素檢驗(yàn)等等??傊N售的儀器設(shè)備應(yīng)用于元素分析,化合物測試,電鍍鍍層厚度檢測。

以下是X熒光光譜儀測試電鍍鍍層的儀器簡介:

鍍層檢測:

常見金屬鍍層有:

 鍍層

 

基體

Ni

Ni-P

Ti

Cu

Sn

Sn-Pb

Zn

Cr

Au

Zn-Ni

Ag

Pd

Rh

Al

Cu


Zn


Fe

SUS

 

單層厚度范圍:

金鍍層0-8um,

鉻鍍層0-15um,

其余一般為0-30um以內(nèi),

可最小測量達(dá)0.001um。

多層厚度范圍:

Au/Ni/Cu : Au分析厚度:0-8um      Ni分析厚度:0-30um

Sn/Ni/Cu: Sn分析厚度:0-30um      Ni分析厚度:0-30um

Cr/Ni/Fe: Cr分析厚度0-15um       Ni分析厚度:0-30um

鍍層層數(shù)為1-6層

鍍層精度相對差值一般<5%。

鍍層成分含量:Sn-Pb合金成分分析;Zn-Ni合金成分分析。

鍍層分析優(yōu)勢:分析PCB金手指最小尺寸可達(dá)0.2mm

單層分析精度,以Ni舉例:(相對差值)

 Ni層厚度(um)

保證精度

<1.0um

<5%

1.0-5.0um

<3%

5.0-10um

<3%

10-20um

<3%

>20.0um

<3%

元素成分分析:

鍍液分析,目前常見鍍液元素分析有:金、銀、錫、銅、鎳、鉻、鋅。

ROHS 和無鹵檢測,高性能SDD探測器可以檢測無鹵,實(shí)現(xiàn)鍍層與環(huán)保一機(jī)多用。

金屬成分分析,在檢測ROHS同時可檢測金屬中其他各元素成分含量。

檢測精度:

Cr,Cd,Hg,Cu, Zn, Fe, Ni, Pb, Mn, W, Au, Ag, Sn等重金屬

檢測限達(dá)1ppm。

對這些金屬測試分析穩(wěn)定的讀取允許差值本儀器已達(dá)到下列標(biāo)準(zhǔn):

A. 檢測含量大于5%的元素穩(wěn)定的測試讀取相對差值小于1%

B. 檢測含量在0.5~5%的元素穩(wěn)定的測試讀取相對差值小于2%

C. 檢測含量在0.1~0.5%的元素穩(wěn)定的測試讀取相對差值小于5%

D. 檢測含量低于0.1%的元素測試讀取相對差值變化率小于10%

測量精度:

1)精度(單層):

                              測厚儀的檢測精度表

Ni層厚度(um)

精度

<1.0um

<5%

1.0-5.0um

<3%

5.0-10um

<3%

10-20um

<3%

>20.0um

<3%

    測試方法: 在相同的操作條件下,對同一標(biāo)準(zhǔn)樣板進(jìn)行5次檢測,檢測到的平均數(shù)據(jù)與標(biāo)樣板的實(shí)際數(shù)據(jù)作比較。檢測精度為檢測平均值與標(biāo)準(zhǔn)樣片實(shí)際值之差(平均誤差)

2)兩層及以上:

  兩層及以上的首層精度符合單層的測試結(jié)果,但是第二層以上比較復(fù)雜,要根據(jù)上面一層的厚度來決定。在一層厚度小于2um時,一層和二層的測試精度基本符合單層的精度,參照如下的測試報告 一層金標(biāo)樣厚度0.101um,第二層鎳的標(biāo)樣厚度為4.52um。

    一層厚度在2~5um時會大大降低第二層的和第三層的測試精度,第二層的誤差率會在5~10%,第三層的誤差率小于15%。

重復(fù)性:

保證重復(fù)性值:±5%

    重復(fù)性的檢測應(yīng)在儀器校準(zhǔn)后: 在相同的操作條件下,使用相同的檢測樣板做連續(xù)重復(fù)檢測,連續(xù)測量必須在同一檢測點(diǎn)位置使用一同樣片間隔60秒,測量一共進(jìn)行10次,每次測量值與10次平均值進(jìn)行對比。

重復(fù)性=平均誤差÷平均值×100* %.



半導(dǎo)體鍍層厚度檢測分析儀

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